Photovoltaikanlagen. Elektroenergie umweltschonend.

Eine Photovoltaikanlage oder auch PV-Anlage ist eine Solarstromanlage in der ein Teil der Sonnenstrahlung in elektrische Energie umgewandelt wird. Wichtige Bestandteile sind die Solarkollektoren oder auch Solarmodule genannt, die in den Solarfabriken hergestellt werden.

Je nach Größe und Anlagenausrichtung werden einzelne Solarmodule zu Strings verschaltet. Die Spannung der einzelnen Module addiert sich dabei. Die Module werden so ausgerichtet, dass sie möglichst große Mengen Licht einfangen können, in Deutschland zum Beispiel in Richtung Süden und mit einem Neigungswinkel von 30° - 55°. Die Anlagen können netzfern oder netzgekoppelt errichtet werden. Bei den netzgekoppelten Anlagen wird der entstehende Gleichstrom mittels Wechselrichter in Wechselstrom gewandelt und in das Stromnetz eingespeist. Bei netzfernen Photovoltaikanlagen wird die Energie in Akkumulatoren gespeichert. Die EPC Group bietet ihren Kunden durch die Errichtung von Photovoltaikanlagen die Möglichkeit, Elektroenergie umweltschonend, CO2-mindernd und kostengünstig zu erzeugen und zu nutzen. Der Anlagenbetreiber erhält in Deutschland zum Beispiel gemäß Energieeinspeisegesetz (EEG) eine Vergütung des erzeugten Stromes. Ob Aufdach- oder Freiflächen-Anlagen, die EPC Group als Generalunternehmer berät, plant und baut Ihre Photovoltaikanlage. Dabei bekommen Sie alle Services aus einer Hand, denn wir stehen Ihnen von der Idee, der Planung und Genehmigung bis zum Bau und der Inbetriebnahme der Anlage zur Seite.


EPC Exclusives

Innovative Technologien über Trichlorsilan und Monosilan

Das Verfahren zur Herstellung von Reinstsilicium aus metallurgischem Silicium beruht auf der thermischen Zersetzung von hochrein rektifizierten Chlorsilanen bzw. Silanen zu Silicium, unter Abspaltung und Rückführung von gasförmigen Nebenprodukten. Die kommerziell übliche Technologie verläuft über die Herstellung von Trichlorsilan im Wirbelschichtreaktor aus metallurgischem Rohsilicium und Chlorwasserstoff mit anschließender mehrstufiger Rektifikation des Trichlorsilans bis zur erforderlichen Reinheit für die gewünschte Anwendung (solar grade, electronic grade). Bei der Verwendung von Trichlorsilan für die thermische Zersetzung zu Silicium bei 900 °C im CVD-Reaktor (chemical vapor deposition) entsteht ein Gemisch aus gasförmigen Nebenprodukten, welches zur Rückführung in den Prozess aufbereitet werden muss (vent gas recovery). Der von uns optimierte Prozess der Herstellung von Reinstsilicium über Monosilan bietet eine wesentlich höhere Effektivität (Temperaturen von lediglich ca. 600 °C, Abscheidegrad von nahezu 100 % im Vergleich zu 25 %). Die Gewinnung von Monosilan erfolgt durch Disproportionierung von Trichlorsilan mit Kreislaufführung der Disproportionierungsprodukte, Trichlorsilan wird also in beiden Verfahren benötigt.

Vent-Gas-Recovery-Anlagen inkl. Rektifikationseinheiten

Das Produktgasgemisch aus der thermischen Zersetzung von Trichlorsilan im CVD-Reaktor (chemical vapor deposition) muß wieder in seine Bestandteile zerlegt werden, um entsprechende Produktkreisläufe installieren zu können. Das Monosilan-Verfahren bedarf dieser Kreisläufe nicht, die Vent Gas Recovery ist aber ebenfalls Bestandteil unseres Leistungsspektrums.

Gefahrstofflager inkl. Monosilan-Lager & -Handlingssysteme

Das Monosilan-Synthesegas wird in vakuumisolierten Behältern bis zur weiteren Verarbeitung bzw. Abfüllung zwischengelagert. Die Behälter besitzen neben einem Druckaufbauverdampfer auch eine Kühlschlange im Inneren des Behälters, um eine Kühlung zu ermöglichen. Die Behälter sind eine Sonderanfertigung unserer Tochterfirma Cryotec, die sich auf kryogene Spezialanwendungen spezialisiert hat.

Optimierte Prozessführung durch Wirbelschichtreaktor-Technologie (FBR-Anlagen)

Sowohl bei der Herstellung von Trichlorsilan aus Rohsilicium mit HCl im Wirbelschichtreaktor als auch bei der Disproportionierung von Trichlorsilan entsteht insbesondere Siliciumtetrachlorid als Nebenprodukt. Die thermische Zersetzung von Trichlorsilan im CVD-Reaktor liefert ebenfalls erhebliche Mengen an Siliciumtetrachlorid. Das Siliciumtetrachlorid wird über einen sogenannten Konvertierungsreaktor mit Wasserstoff zum Trichlorsilan umgesetzt. Dieser Prozess kann homogen mit Wasserstoff bei ca. 1.000 °C in Graphitreaktoren geführt werden. Wir wenden die elegantere heterogene Prozessführung im Wirbelschichtreaktor unter Einspeisung von Silicium an.